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TF1700真空管式爐主要用于稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等行業進行真空燒結、氣氛保護燒結、真空鍍膜、CVD實驗、物質成分測量等場合。

這款管式爐以1800型硅鉬為加熱元件，采用雙層殼體結構和30段程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用1800型氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫，采用99剛玉管、兩端用不銹鋼法蘭密封，用浮子流量計控制進氣流量、該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點，是高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、TF1600真空管式爐

這款管式爐以硅碳為加熱元件，采用雙層殼體結構和30段程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用1600型氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫，采用99剛玉管、兩端用不銹鋼法蘭密封，用浮子流量計控制進氣流量、該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點，是高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、TF1400真空管式爐

TF1200開啟式真空管式爐，不僅可以抽真空,也可以通氣體保護。爐管工件橫穿于上下共8組進口電阻絲的爐膛，溫場均勻。其開啟式結構使得拆裝爐管方便，操作簡捷，配備不銹鋼彈簧支撐容許在降溫過程中將爐膛打開，加快降溫過程，以滿足特殊實驗要求TF1200真空管式爐